|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 38 van 57 gevonden artikelen
| Titel: |
Process design for improvement in device performance of top-gate TFTs using In-Sn-Zn-O channels prepared by thermal atomic-layer deposition |
| Auteur: |
Yoo, Jae-Hyuk Kwon, Young-Ha Seong, Nak-Jin Choi, Kyu-Jeong Yang, Jong-Heon Hwang, Chi-Sun Yoon, Sung-Min |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 190 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 38 van 57 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |