|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 80 van 145 gevonden artikelen
| Titel: |
Improving bias stability of IGZO field-effect transistors through CF4 plasma treatment of Al2O3 dielectrics |
| Auteur: |
Oh, Seyoung Kwon, Ojun Kim, Min Jeong Seo, Wondeok Cho, Eunjeong Park, Hyeon Ki Park, Woojin Cho, Byungjin |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 185 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 80 van 145 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |