|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 53 van 145 gevonden artikelen
| Titel: |
Enhanced resistance property between ALD-Ru and W by controlling oxygen behavior with post Ru deposition annealing |
| Auteur: |
Kim, Sung Jun Kim, Seon Yong Park, Jun Hyeong Park, In-Sung Park, Young Wook Ahn, Jinho |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 185 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 53 van 145 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |