|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 69 van 89 gevonden artikelen
| Titel: |
Selective dry etching of silicon with heat-mode resist GeSb for the preparation of metasurfaces |
| Auteur: |
Zeng, Xu Zhang, Kui Wei, Jingsong Chi, Jiahao Dai, Haolin Wang, Yang |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 184 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 69 van 89 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |