|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 62 van 89 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma-enhanced atomic layer deposition of silicon nitride thin films with different substrate biasing using Diiodosilane precursor |
| Auteur: |
Zeghouane, Mohammed Lefevre, Gauthier Labau, Sebastien Hachemi, Mohammed-Bilal Bassani, Franck Salem, Bassem |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 184 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 62 van 89 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |