|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 63 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of abrasive particle size and oxidant concentration on CdZnTe crystal properties during CMP process |
| Auteur: |
Liang, Xiaoyan Yin, Liang Zhang, Jijun Yang, Wenxuan Xie, Chen Yu, Chao Wang, Linjun Min, Jiahua |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 182 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 63 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |