|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 41 van 47 gevonden artikelen
| Titel: |
Structure and RF performance evolution of polycrystalline silicon charge capture layer for advanced RF-SOI in in-situ annealing process |
| Auteur: |
Dai, Rongwang Liu, Yun Ding, Jingjun Shi, Chenyu Wang, Ziwen Xue, Zhongying Wei, Xing |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 177 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 41 van 47 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |