|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 54 gevonden artikelen
| Titel: |
Determination of effective Ga/N ratio to control GaN growth behavior in liquid-target reactive magnetron sputter epitaxy |
| Auteur: |
Lo, Yi-Ling Prabaswara, Aditya Chang, Jui-Che Bairagi, Samiran Zhirkov, Igor Sandström, Per Rosen, Johanna Järrendahl, Kenneth Hultman, Lars Birch, Jens Hsiao, Ching-Lien |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 176 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 54 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |