|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 43 van 71 gevonden artikelen
| Titel: |
Image analysis development for optimization of 4H–SiC trench recovery treatment by combination of gas etching and sacrificial oxidation approaches |
| Auteur: |
Barcellona, M. Badalà, P. Boscaglia, M. Cantiano, M. Mello, D. Ferlito, E. Pirnaci, M.D. Tenaglia, D. Fragalà, M.E. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 174 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 43 van 71 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |