|
A special electrostatic self-assembly structure of colloidal silica: Improving Chemical Mechanical Polishing performance |
|
|
|
Titel: |
A special electrostatic self-assembly structure of colloidal silica: Improving Chemical Mechanical Polishing performance |
Auteur: |
Zhang, Xianglong Li, Xianghui Meng, Ni Nie, Shenao Qiu, Yuxuan Wei, Ying Xu, Mingyan Li, Xin Dai, Ke He, Yangang |
Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
Paginering: |
Jaargang 173 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2024 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|