|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 38 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of Halo structure variations on the threshold voltage of a 22nm gate length NMOS transistor |
| Auteur: |
Afifah Maheran, A.H. Menon, P.S. Ahmad, I. Shaari, S. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 17 (2014) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2014 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 38 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |