|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 39 gevonden artikelen
| Titel: |
Etched characteristics of nanoscale TiO2 using C4F8-based and BCl3-based gases |
| Auteur: |
Hong, Jong Woo Kim, Yeon Hee Kim, Hee Ju Tak, Hyun Woo Goong, Soo Nam Kim, Seong Bae Bae, Ki Deok Lee, Jeong Yub Bae, Hae Soo Yeom, Geun Young Kim, Dong Woo |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 164 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 39 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |