|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Improvement of oxide chemical mechanical polishing performance by increasing Ce3+/Ce4+ ratio in ceria slurry via hydrogen reduction |
| Auteur: |
Lee, Jaewon Kim, Eungchul Bae, Chulwoo Seok, Hyunho Cho, Jinil Aydin, Kubra Kim, Taesung |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 159 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |