|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 38 gevonden artikelen
| Titel: |
Hydrogen etching of 4H–SiC(0001) facet and step formation |
| Auteur: |
Li, Rui Zhang, Kaimin Zhang, Yi Zhang, Zhenzhen Ji, Peixuan Shi, Chengqian Hao, Danni Zhang, Yipeng Moro, Ramiro Ma, Yanqing Ma, Lei |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 149 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 38 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |