|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 52 gevonden artikelen
| Titel: |
Focused electron beam deposited silicon dioxide derivatives for nano-electronic applications |
| Auteur: |
Chapman, Gemma Masteghin, Mateus G. Cox, David C. Clowes, Steven K. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 147 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Author(s) |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 52 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |