|
Single crystal silicon wafer polishing by pretreating pad adsorbing SiO2 grains and abrasive-free slurries |
|
|
|
Titel: |
Single crystal silicon wafer polishing by pretreating pad adsorbing SiO2 grains and abrasive-free slurries |
Auteur: |
Bu, Zhengzheng Niu, Fengli Chen, Jiapeng Jiang, Zhenlin Wang, Wenjun Wang, Xuehan Wang, Hanqiang Zhang, Zefang Zhu, Yongwei Sun, Tao |
Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
Paginering: |
Jaargang 141 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2022 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|