|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 61 gevonden artikelen
| Titel: |
Hydrogen diffusion behavior in CH2P-molecular-ion-implanted silicon wafers for CMOS image sensors |
| Auteur: |
Okuyama, Ryosuke Kadono, Takeshi Onaka-Masada, Ayumi Suzuki, Akihiro Kobayashi, Koji Shigematsu, Satoshi Hirose, Ryo Koga, Yoshihiro Kurita, Kazunari |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 137 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 61 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |