|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 27 van 36 gevonden artikelen
| Titel: |
Selective etching of p-GaN over Al0.25Ga0.75N in Cl2/Ar/O2 ICP plasma for fabrication of normally-off GaN HEMTs |
| Auteur: |
Taube, Andrzej Kamiński, Maciej Ekielski, Marek Kruszka, Renata Jankowska-Śliwińska, Joanna Michałowski, Paweł P. Zdunek, Joanna Szerling, Anna |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 122 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 27 van 36 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |