|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 38 van 44 gevonden artikelen
| Titel: |
Strain evaluation in Ge and Sn implanted Si layers with laser and rapid thermal annealing |
| Auteur: |
Komago, Shota Yokogawa, Ryo Yoshioka, Kazutoshi Borland, John O. Kuroi, Takashi Kawasaki, Yoji Ogura, Atsushi |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 120 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 38 van 44 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |