|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
N+ plasma-assisted wafer bonding between silicon and chemical vapor deposition oxide at low temperature |
| Auteur: |
Ma, Xiaobo Liu, Weili Chen, Chao Xu, Jiayi Song, Zhitang Lin, Chenglu |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 12 (2009) nr. 4-5 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |