|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of TaN films deposited using different N2 flow rates on the properties of Ta and Cu films in advanced 3D NAND memory |
| Auteur: |
Sun, Xianglie Lv, Shuliang Li, Yuan Huang, Chi Ma, Haodong Luo, Jun |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 115 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |