|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 43 van 53 gevonden artikelen
| Titel: |
Reliability assessment of SiO2/ZrO2 stack gate dielectric on strained-Si/Si0.8Ge0.2 heterolayers under dynamic and AC stress |
| Auteur: |
Bera, M.K. Mahata, C. Maiti, C.K. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 11 (2008) nr. 5-6 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 43 van 53 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |