|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 6 gevonden artikelen
| Titel: |
Thermal stability of high-k Er-silicate gate dielectric formed by interfacial reaction between Er and SiO2 films |
| Auteur: |
Chang, Sung-Yong Jeong, Myeong-Il Jagadeesh Chandra, S.V. Lee, Yong-Boo Hong, Hyo-Bong Rajagopal Reddy, V. Choi, Chel-Jong |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 11 (2008) nr. 4 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 6 gevonden artikelen
| << vorige |