|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 7 gevonden artikelen
| Titel: |
Inductively coupled plasma reactive ion etching of sapphire using C2F6- and NF3-based gas mixtures |
| Auteur: |
Kang, Dong-Jin Kim, Il-Soo Moon, Jong-Ha Lee, Byung-Teak |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 11 (2008) nr. 1 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 7 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |