|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 30 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of post-deposition annealing on atomic layer deposited SiO2 film for silicon surface passivation |
| Auteur: |
Li, Shizheng Xu, Jiahui Wang, Liangxing Yang, Ning Ye, Xiaojun Yuan, Xiao Xiang, Haitao Liu, Cui Li, Hongbo |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 106 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 30 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |