|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 26 gevonden artikelen
| Titel: |
Formation of contacts to shallow junctions using titanium silicide with diffusion barriers |
| Auteur: |
Zagozdzon-Wosik, W Rusakova, I Gooty, S.R Marton, D Li, J Zhang, Z.H Lin, C.-H Bleiler, R.J Zhang, D.X |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 1 (1998) nr. 3-4 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 26 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |