|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
High-temperature stability of PECVD-derived organosilica membranes deposited on TiO2 and SiO2–ZrO2 intermediate layers using HMDSO/Ar plasma |
| Auteur: |
Nagasawa, Hiroki Minamizawa, Toshihiro Kanezashi, Masakoto Yoshioka, Tomohisa Tsuru, Toshinori |
| Verschenen in: |
Separation and purification technology |
| Paginering: | Jaargang 121 (2014) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2014 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |