|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Extension du procédé de dépôt de silicium par CVD en lit fluidisé à des conditions opératoires peu conventionnelles: dépôts sur poudres poreuses et/ou sous pression réduite |
| Auteur: |
Rodriguez Ruvalcaba, J.R. Caussat, B. Hémati et J.P. Couderc, M. |
| Verschenen in: |
Chemical engineering journal |
| Paginering: | Jaargang 73 (1999) nr. 1 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |