|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 79 van 136 gevonden artikelen
| Titel: |
MOF-templated hollow cobalt sulfide as an enhanced Oxone activator for degradation of UV Absorber: Key role of sulfur Vacancy-Induced highly active CoII sites |
| Auteur: |
Khiem, Ta Cong Duan, Xiaoguang Liu, Wei-Jie Park, Young-Kwon Bui, Ha Manh Oh, Wen-Da Ghotekar, Suresh Tsang, Yiu Fai Lin, Kun-Yi Andrew |
| Verschenen in: |
Chemical engineering journal |
| Paginering: | Jaargang 453 () nr. P2 pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 79 van 136 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |