|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 56 van 59 gevonden artikelen
| Titel: |
The effect of H2–CCl4 mixture plasma treatment on TiO2 photocatalytic oxidation of aromatic air contaminants under both UV and visible light |
| Auteur: |
Hu, Shaozheng Li, Fayun Fan, Zhiping Gui, Jianzhou |
| Verschenen in: |
Chemical engineering journal |
| Paginering: | Jaargang 236 (2014) nr. C pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2014 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 56 van 59 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |