|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 27 gevonden artikelen
| Titel: |
An ultra heat-resistant polyimide formulated with photo-base generator for alkaline-developable, negative-type photoresist |
| Auteur: |
Tseng, Ling-Ya Lin, Yan-Cheng Kuo, Chih-Cheng Kuo, Chi-Ching Ueda, Mitsuru Chen, Wen-Chang |
| Verschenen in: |
Reactive & functional polymers |
| Paginering: | Jaargang 157 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 27 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |