|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
Improvement of temperature homogeneity of a silicon wafer heated in a rapid thermal system (RTP: Rapid Thermal Process) by a filtering window |
| Auteur: |
Logerais, Pierre-Olivier Riou, Olivier Delaleux, Fabien Durastanti, Jean-Félix Bouteville, Anne |
| Verschenen in: |
Applied thermal engineering |
| Paginering: | Jaargang 77 (2015) nr. C pagina's 14 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 20 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |