|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 53 van 119 gevonden artikelen
| Titel: |
Important factors affecting the thermal resistance and thermal diffusivity of vapor chambers |
| Auteur: |
Huang, Chien Lin, Wei-Keng Chen, Jhe-Kai |
| Verschenen in: |
Applied thermal engineering |
| Paginering: | Jaargang 126 (2017) nr. C pagina's 1148-1155 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 53 van 119 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |