|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 38 van 39 gevonden artikelen
| Titel: |
Viewpoint: Nanoscale chemistry and crystallography are both the obstacle and pathway to advanced radiation-tolerant materials |
| Auteur: |
Parish, Chad M. Wang, Kun Edmondson, Philip D. |
| Verschenen in: |
Scripta materialia |
| Paginering: | Jaargang 143 () nr. C pagina's 169-175 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Acta Materialia Inc. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 38 van 39 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |