|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 44 gevonden artikelen
| Titel: |
Electric field and temperature scaling of polarization reversal in silicon doped hafnium oxide ferroelectric thin films |
| Auteur: |
Zhou, Dayu Guan, Yan Vopson, Melvin M. Xu, Jin Liang, Hailong Cao, Fei Dong, Xianlin Mueller, Johannes Schenk, Tony Schroeder, Uwe |
| Verschenen in: |
Acta Materialia |
| Paginering: | Jaargang 99 () nr. C pagina's 240-246 |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Acta Materialia Inc. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 44 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |