|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 30 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of residual impurities on polarization switching kinetics in atomic-layer-deposited ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films |
| Auteur: |
Lee, Dong Hyun Yu, Geun Taek Park, Ju Yong Kim, Se Hyun Yang, Kun Park, Geun Hyeong Ryu, Jin Ju Lee, Je In Kim, Gun Hwan Park, Min Hyuk |
| Verschenen in: |
Acta Materialia |
| Paginering: | Jaargang 222 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Acta Materialia Inc. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 30 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |