|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 39 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of a Ti diffusion barrier on the cobalt silicide formation: solid solution, segregation and reactive diffusion |
| Auteur: |
Zschiesche, Hannes Alfonso, Claude Charaï, Ahmed Mangelinck, Dominique |
| Verschenen in: |
Acta Materialia |
| Paginering: | Jaargang 204 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 39 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |