|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
High rate deposition of tin-doped indium oxide films by reactive magnetron sputtering with unipolar pulsing and plasma emission feedback systems |
| Auteur: |
Ohno, S. Kawaguchi, Y. Miyamura, A. Sato, Y. Song, P.K. Yoshikawa, M. Frach, P. Shigesato, Y. |
| Verschenen in: |
Science and technology of advanced materials |
| Paginering: | Jaargang 7 (2006) nr. 1 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |