|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Etching characteristics of LiNbO3 crystal by fluorine gas plasma reactive ion etching |
| Auteur: |
Tamura, Masashi Yoshikado, Shinzo |
| Verschenen in: |
Science and technology of advanced materials |
| Paginering: | Jaargang 2 (2001) nr. 3-4 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |