|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
A series of modeling of plasma etching and damage reduction: vertically integrated computer aided design for device processing |
| Auteur: |
Makabe, Toshiaki Matsui, Jun Maeshige, Kazunobu |
| Verschenen in: |
Science and technology of advanced materials |
| Paginering: | Jaargang 2 (2001) nr. 3-4 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 22 gevonden artikelen
| volgende >> |