|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 29 gevonden artikelen
| Titel: |
A review on plasma-etch-process induced damage of HgCdTe |
| Auteur: |
Liu, Lingfeng Chen, Yiyu Ye, Zhenhua Ding, Ruijun |
| Verschenen in: |
Infrared physics and technology |
| Paginering: | Jaargang 90 (2018) nr. C pagina's 175-185 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 29 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |