|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Structural and electrical characteristics of ALD-HfO2/n-Si gate stack with SiON interfacial layer for advanced CMOS technology |
| Auteur: |
Gupta, Richa Rajput, Renu Prasher, Rakesh Vaid, Rakesh |
| Verschenen in: |
Solid state sciences |
| Paginering: | Jaargang 59 (2016) nr. C pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Masson SAS |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |