|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of post-deposition annealing temperature on RF-sputtered HfO2 thin film for advanced CMOS technology |
| Auteur: |
Khairnar, A.G. Mahajan, A.M. |
| Verschenen in: |
Solid state sciences |
| Paginering: | Jaargang 15 (2013) nr. C pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Masson SAS |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |