|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 67 van 75 gevonden artikelen
| Titel: |
Ta2O5 doping effects on the property improvement of HfOx-based RRAMs using co-sputtering deposition method |
| Auteur: |
Chang, Ting-Jia Li, Cheng-Ying Chu, Sheng-Yuan |
| Verschenen in: |
Materials characterization |
| Paginering: | Jaargang 199 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Inc. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 67 van 75 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |