|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Oxidation behavior of TiAl protected by Si+Nb combined ion implantation |
| Auteur: |
Li, X.Y Taniguchi, S Zhu, Y.-C Fujita, K Iwamoto, N Matsunaga, Y Nakagawa, K |
| Verschenen in: |
Intermetallics |
| Paginering: | Jaargang 9 (2001) nr. 5 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |