|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 40 gevonden artikelen
| Titel: |
Diffusion mechanisms of vacancy and doped Si in Al3Ti from first-principles calculations |
| Auteur: |
Zhu, Guoliang Dai, Yongbing Shu, Da Xiao, Yanping Yang, Yongxiang Wang, Jun Sun, Baode Boom, Rob |
| Verschenen in: |
Intermetallics |
| Paginering: | Jaargang 19 (2011) nr. 7 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 40 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |