|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Oxygen diffusion coefficient in the γ phase of a TiAl GE alloy determined by SIMS |
| Auteur: |
Thenot, Camille Monceau, Daniel Connétable, Damien Sallot, Pierre Pinault-Thaury, Marie-Amandine Monchoux, Jean-Philippe |
| Verschenen in: |
Intermetallics |
| Paginering: | Jaargang 172 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |