|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
Model approximation and stabilization of reactive sputter processes |
| Auteur: |
Woelfel, Christian Bockhorn, Dirk Awakowicz, Peter Lunze, Jan |
| Verschenen in: |
Journal of process control |
| Paginering: | Jaargang 83 () nr. C pagina's 121-128 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 20 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |