|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization of the interface between the Hf-based high-k thin film and the Si using spatially resolved electron energy-loss spectroscopy |
| Auteur: |
Wang, X.F. Li, Quan Lee, P.F. Dai, J.Y. Gong, X.G. |
| Verschenen in: |
Micron |
| Paginering: | Jaargang 41 (2010) nr. 1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |