|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 32 gevonden artikelen
| Titel: |
Polysulfone based non-CA resists for 193nm immersion lithography: Effect of increasing polymer absorbance on sensitivity |
| Auteur: |
Chen, Lan Goh, Yong-Keng Lawrie, Kirsten Chuang, Yami Piscani, Emil Zimmerman, Paul Blakey, Idriss Whittaker, Andrew K. |
| Verschenen in: |
Radiation physics and chemistry |
| Paginering: | Jaargang 80 (2011) nr. 2 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 32 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |